“李董放心，我自有分寸。”
周离的语气平静而自信，反而安抚了李泽坤。
第三天上午，约定的时间即将到来。
研发中心最大的会议室再次座无虚席。
不仅专家委员会成员全部到场，许多得到消息的资深工程师和研究员也挤满了后排。
所有人的目光都聚焦在主席台上那个即将揭晓谜底的年轻人身上。
钱正明坐在第一排，面色凝重。
刘铭则嘴角带着一丝不易察觉的冷笑，他已经做好了准备。
一旦周离拿不出东西或者拿出的是伪造数据，他就会立刻发难，彻底将这个空降的“骗子”钉在耻辱柱上。
实验室的大门被推开。
周离走了出来，手里拿着一个银色的、带有特殊加密接口的固态硬盘。
他步伐稳健，眼神平静，仿佛只是要进行一次普通的技术汇报。
他无视了那些复杂的目光，径直走到会议室的主讲台，将固态硬盘接入了投影系统。
空气仿佛凝固了，所有人都屏住了呼吸。
周离的目光扫过全场，最终落在钱正明和刘铭身上，淡淡开口：
“时间到，各位，请看。”
随着周离的操作，巨大的投影屏幕瞬间亮起。
没有华丽的开场动画，没有冗余的客套话，映入眼帘的，是密密麻麻、却又条理清晰的工艺流程图、原子结构模型、关键参数列表以及复杂的物理化学公式。
屏幕的标题赫然写着——
“7nm FinFET工艺核心数据 V1.0”。
嗡！会议室里响起一片倒吸凉气的声音。
仅仅是这个标题和初步展示的框架结构，就足以让在场的内行们心头巨震。
这绝非随意拼凑的臆想，其专业性和严谨性，远超他们之前的任何预研方案。
“这……这是鳍式场效应晶体管的全新结构？”
钱正明猛地站起身，快步走到屏幕前，几乎将脸贴了上去，浑浊的老眼中爆发出难以置信的光芒。
“这个栅极设计……太巧妙了！
它解决了漏电问题！”
“还有这个材料配比……是硅锗？
但比例和掺杂方式完全不同！
这能大幅提升载流子迁移率！”
“快看这个多重曝光方案！
竟然能绕开EUV光刻机的限制？
我的天……”
一位负责光刻工艺的专家语无伦次地惊呼起来，双手都在颤抖。
越来越多的专家围拢到屏幕前，他们忘记了之前的质疑和赌约，完全沉浸在了眼前这片崭新的技术天地之中。
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