有了陈柏然的加入，“晨曦”项目的推进速度不减反增。姜蕴宁也不必再分心去处理那些繁琐的对外协调，能够将全部精力投入在技术攻关上。
光刻机这种复杂设备的研发流程，大致可以分为四个阶段：研发、调试、小批量试产、全面量产。
目前，姜蕴宁他们正处在调试阶段，对原型机进行各项性能测试，包括精度、稳定性以及环境适应性等。调试成功后，会先进行小批量生产，验证实际产能、良率和工艺稳定性。
只有在试产阶段良率达标、材料供应充足、工艺成熟后，项目才会进入全面量产。
洁净室内，光刻机旁弥漫着低沉而均匀的机械嗡鸣。
姜蕴宁站在设备前，手中拿着刚从光刻机台出来的小批量晶圆。她把晶圆放到显微镜下，目光随着镜头缓缓移动——整体图案大致清晰，但在几个局部区域，仍能捕捉到细小的缺陷痕迹。
“良率67%，属于调试阶段的正常范围，”她低声自语，但眉头微微皱起，“还有提升空间。”
调试阶段良率一般比较低，大概在50%–70%。这个数值是通过抽样观察和简单检测仪器得到的，用来判断设备和工艺的整体表现。良率67%说明设备和工艺基本稳定，但仍需要调整。
不过，姜蕴宁心里清楚，这只是一个初步评估。要想得到正式、可靠的良率统计，还必须将晶圆送去专业检测中心，用精密设备覆盖更多样本区域，确保每片晶圆都符合设计要求。调试阶段的显微镜观察，只能提供趋势和问题指示，而送检结果，才能作为研发和后续量产决策的依据。
姜蕴宁走向控制台，调出每一片晶圆的曝光记录和掩膜版使用次数。
掩膜版在光刻过程中存在不可避免的损耗——每次曝光，紫外光都会对其光学性能造成微小影响。随着使用次数增加，图案可能出现轻微磨损或透光率下降，从而影响晶圆的精度和良率。
“把掩膜版的自检程序跑一遍，看看是否存在问题。”她低声吩咐旁边正在做记录的许念。
许念迅速操作机台，启动了掩膜版的在线自检程序。
一会儿之后，屏幕上显示出掩膜版部分区域的透光率略有波动，提示存在光学偏差或微小缺陷，需要进一步人工检查确认。
“看来问题出在掩膜版。”姜蕴宁目光一凝，轻声吩咐，“把掩膜版取出来，做一次检测。”
几名技术员按照操作规定小心取下掩膜版，放入专用防尘盒中，送至专用检测台进行检查。
在放大检测仪的光学投影下，掩膜版的表面被逐层扫描。很快，一处细微的划痕显现出来，旁边区域的透光率也出现了异常波动。
姜蕴宁戴着手套，指着检测屏幕上的标记点沉声道：“这里有划痕，透光也不均。良率下滑，很有可能就是它造成的。”
周围几人纷纷点头，神情凝重。
这时，操作工程师颜纯艺抱着一只防护盒走过来，低声汇报道：“姜工，新到了一批改良版掩膜版，要不要替换验证小批量试产？”
姜蕴宁略微思考了一下，点头示意。
颜纯艺和其他几位技术员小心翼翼地拆下旧掩膜版，更换上新的。
许念则在一旁调整光刻机的曝光参数，优化对焦和光强，确认后她说道：“参数正常，可以启动。”
接着，她按下启动按钮，机器重新运转起来。
十几分钟后，新晶圆被取出，送到显微镜下。
姜蕴宁俯身观察，图案清晰了许多，局部缺陷的数量明显降低。她抬头看向身边的许念等几人，轻声说道：“你们也来看一下，确认一下良率和图案情况。”
即便作为核心技术负责人，姜蕴宁仍然需要团队成员共同确认结果，以避免因为个人主观判断而产生偏差。
几轮测试后，良率逐步上升到74%，缺陷区域明显减少。
“看来这批材料更适配当前调试条件。”她轻轻吐了口气，但眼神仍旧凝重，“调试阶段良率波动正常，继续做小批量验证，送检确认稳定性。”
“明白。”
众人立刻分头行动，洁净室里再次响起有条不紊的运转声。
不久之后，“旭日2号”顺利完成改造与调试，正式宣告成功。
然而，这并不意味着华国半导体的困境从此解除。相反，新的瓶颈很快显露出来，而且比想象中更加尖锐：
核心材料依赖——高纯度光学晶体、掩膜版与光刻胶，以及若干特殊金属材料，其中不止一种仍受制于国际供应链。
工艺配套不足——设备能用，但若没有与之匹配的光刻胶与掩膜版工艺，良率和产能依旧无法保证。
外部环境制约——部分环节哪怕不是技术问题，也可能因为全球供应与政策因素被卡脖子。
而这些，都不是姜蕴宁能够靠“技术”，以一己之力去解决的。
她的专长在设备与系统集成上，却没法让光刻胶和光学晶体等关键材料凭空出现，也没法替代国际上垄断的材料产业。
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