在EUV LLC联盟通过两年的研究，验证EUV光刻机的技术可行性后，2002年1月，由GCA出资5亿美元，成立一家GCA EUV光刻机股份有限责任公司，邀请Intel、AMD、IBM、HP、TI、摩托罗拉、蔡司公司、Cymer、台积电和三星等二十多家公司参加，筹资50亿美元，共同研发EUV技术。
EUV LLC联盟中除了GCA、Intel和牵头的美国能源部以外，还有摩托罗拉、AMD、IBM，以及能源部下属三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。
美国半导体行业都不愿意看到由Nikon和Canon主导的EUV研究走在GCA EUV的前面。
“阿密特先生，3360i的研发成本要高一些，初步定价2000万美元，阿密特先生和阿尔特曼先生是老朋友，我做主打八五折！”
光刻机是个高投入高收益的行业，谁的技术领先，谁就能拿到高额利润。
“多谢孙先生！”
阿密特和阿尔特曼就不需要考虑DSP-100干式光刻机了，打道回府，向董事长汇报。
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“原田弘树先生，多谢热情款待，我们回去向公司报告，最后由公司决定；原田弘树先生再见！”
第二天，阿密特向负责接待的常务副总裁原田弘树告辞。
“阿密特先生再见！”
原田弘树一脸郁闷，阿尔特曼一行人刚离开不久；昨天下午，PGCA和TTFAB的应邀贵宾一起离开了，这次招待会到如今还没有拿到一台DSP-100干式光刻机的订单和意向，似乎大家都在等待。
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